SK海力士宣布已将业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV）引进韩国利川M16工厂，并举行了设备入厂庆祝仪式。这款High NA EUV拥有比当前EUV更高的数值孔径，可大幅提升分辨率，能够绘制当前最微细的电路图案，在缩小线宽和提升集成度方面发挥关键作用。

数值孔径（NA）是用来衡量透镜汇聚光线能力的数值。NA值越大，电路图案绘制的精密度越高。这使得每块晶圆上可生产的芯片数量增加，同时也能有效提高能效与性能。

此次引进的设备为荷兰ASML公司推出的TWINSCAN EXE:5200B，是首款量产型High-NA EUV设备，其EUV光波长为13.5nm，分辨率达8nm。与现有的EUV设备相比，新设备的光学性能提升了40%，使其能够制作出精密度高达1.7倍的电路图案，并将集成度提升2.9倍。